貝克曼庫爾特公司新一代 LS 13 320 XR 將激光衍射粒度分析儀提升到了一個更高的水平，升級版 PIDS 專技 術(shù)，優(yōu)化的132枚檢測器，保證了儀器分辨率更高，結(jié)果更準確，再現(xiàn)性更 好。您不僅可以測量粒徑范圍更寬的顆粒，而且可以更快、更可靠地檢測到顆粒粒徑間極細微的差異。并且新軟 件的操作界面更加直觀，僅需點擊幾次便可獲得您需要的數(shù)據(jù)。

LS 13 320 XR激光衍射粒度分析儀是一款全自動、高準確性、高分辨率、高重現(xiàn)性以及操作非常簡單的干濕兩用粒 度分析儀，采用全程Mie光散射理論并提供Fraunhofer理論模型。LS 13 320 XR配備有多種新型的樣品進樣模塊， “即插即用"，滿足不同的分析要求，靈活便利；PIDS技術(shù)，真正實現(xiàn) 10nm粒徑測量；直觀的軟件和觸摸屏設(shè)計，大大簡化了儀器的操作。LS 13 320 XR將為您開啟全新的測量體驗！
超高分辨率
不論單峰、雙峰還是多峰，不論納米、微米還是納微米，均可實現(xiàn)高分 辨率的檢測
寬測量范圍：10nm-3500µm
提供真實（峰值）、高分辨率的測試數(shù)據(jù)，下限低至 10nm，上限高達 3500µm
升級版 PIDS 技術(shù)：更好解決納米測量挑戰(zhàn)
提高原始數(shù)據(jù)檢測精度，提高檢測器檢測垂直和水平偏振散射光的靈敏 度，真正實現(xiàn)亞微米級粒度分析 - 以往極難達到的測量能力
多峰自動檢測
測量前無需估計粒度分布情況（比如多峰、窄分布），便可獲得真實的 測量結(jié)果
簡單、直觀的操作軟件
• 從開始測量到獲得結(jié)果僅需 2 次點擊
• 包含一個集成的光學(xué)常數(shù)數(shù)據(jù)庫
• 隨時向您通報有用的用戶診斷報告
• 精簡的工作流不僅易于使用，更節(jié)省時間
數(shù)據(jù)完整性及合規(guī)性
FDA的《電子記錄和電子簽名規(guī)則》 （21 CFR 第 11 部分）規(guī)定了提交電 子文件的要求。選擇軟件的最高安全 等級，系統(tǒng)將自動調(diào)節(jié)以下配置，以 符合該法規(guī)要求：
• 電子簽名
• 用戶安全登錄
• 用戶權(quán)限
• 審查跟蹤
• 錯誤日志文件
• 管理配置工具
驗證
這是《生產(chǎn)質(zhì)量管理規(guī)范（GMP）》和其它法規(guī)要求所必須的。 LS 13 320 XR激光衍射粒度分布分析儀配備符合GMP要求的驗證程序，可滿足安裝驗證（IQ）和運行驗證（OQ） 所需。

簡單易用的軟件 簡化您的日常工作
導(dǎo)航輪 顯示和導(dǎo)出數(shù)據(jù)僅需點擊 1 次。
比以往更高效的粒度分析
LS 13 320 XR 軟件的功能界面更加直觀，非常易于使用，您無需具備大量的操作知識便可輕松獲得準確 的數(shù)據(jù)。
開始測量
檢測方法一旦在LS 13 320 XR軟件中設(shè)定，僅需點擊2次便 可開始測量。選擇預(yù)先設(shè)定的方法，編輯樣品信息，然后點 擊開始測量。
儀器自檢
儀器配備有自檢診斷功能，測試過程中隨時顯示測量情況。
自動合格/不合格管理，實現(xiàn)直接質(zhì)控
為檢驗樣品合格/不合格，LS 13 320 XR軟件自動對測量結(jié)果 標注綠色或紅色，提示其是否符合所需規(guī)格。因此，無論操 作人員經(jīng)驗如何，均可通過該功能迅速了解樣品質(zhì)量情況。
導(dǎo)航輪
顯示和導(dǎo)出數(shù)據(jù)僅需點擊 1 次。

重磅創(chuàng)新 幫助您準確測量細微差異
細節(jié)尤為重要！樣本間極細微的差異，會導(dǎo)致成品間出現(xiàn)巨大差異。 這也是為什么 LS 13 320 XR 激光衍射粒度分布分析儀采用 132 枚檢測器的原因，其可以提供更高的分辨率，獲得更 準確的檢測結(jié)果，同時實現(xiàn) 10 nm - 3500 µm 的寬范圍測量。
X-D陣列檢測器 - 確保高分辨率的準確測量
• 特殊設(shè)計X型對數(shù)排布檢測器陣列，可以準確記錄散射光強信號，獲得 真實準確的粒度分布
• 132枚檢測器能夠清晰區(qū)分不同粒度等級間散射光強譜圖差異，快速、準 確的提供真實粒度分布
• 優(yōu)化的檢測器信噪比，大大提高了檢測到散射光強譜圖細微變化的能力
• 亞微米檢測區(qū)域，應(yīng)用6枚檢測器對三種不同波長的光在垂直和水平偏振 方向上進行36個單獨檢測，提供納米級顆粒優(yōu)異的準確性和高分辨率

多峰樣品自動檢測，更放心
• 憑借業(yè)界出眾的技術(shù)，無需預(yù)估樣品峰 型，無需選擇分析模型，輕松準確分析 多峰樣品，讓您對測試結(jié)果更放心
• 準確性誤差優(yōu)于±0.5%
• 重復(fù)性誤差優(yōu)于±0.5%

重磅創(chuàng)新 真正實現(xiàn)納米級測量
創(chuàng)新不止，重磅升級，基于升級版PID技術(shù)，LS 13 320 XR真正實現(xiàn)納米 級測量，提供亞微米顆粒更高分辨率的粒度分析，下限可準確檢測至 10nm！
PIDS技術(shù)：偏振光強度差散射
傳統(tǒng)方法測量亞微米顆粒的散射光強譜圖在形狀和強度 上都非常相似，區(qū)分比較困難，因此當測量亞微米顆粒 時，由于分辨率低而造成不準確的粒度測量。
而亞微米顆粒在水平和垂直偏振光下可形成差異的散射 譜圖，而這些差異便是亞微米顆粒識別的重要信息。 PIDS技術(shù)采用了3種不同波長的光順次照射樣品，首先 為垂直偏振，然后為水平偏振，通過分析每個波長的水 平和垂直輻射光之間的差異，便可獲得亞微米樣品準確 的粒度分布信息。升級版PIDS技術(shù)從光源到濾波器 再到檢測器都進行了全面的升級，使得測量亞微米顆粒 的動態(tài)范圍和分辨率都得到了更大程度上的提高。